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| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合 |
高功率激光材料測(cè)試儀
用于高功率激光器和極深紫外EUV源的光學(xué)部件性能綜合測(cè)量，且性能和參數(shù)測(cè)量基于ISO國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。
高功率激光材料測(cè)試儀別名：弱吸收測(cè)量?jī)x，強(qiáng)激光材料性能測(cè)試儀，高功率激光薄膜光熱弱吸收測(cè)量?jī)x，光學(xué)薄膜微弱吸收測(cè)量?jī)x，光學(xué)材料光熱效應(yīng)測(cè)量?jī)x
主要特點(diǎn)
基于ISO11551標(biāo)準(zhǔn)吸收測(cè)量
基于ISO11254標(biāo)準(zhǔn)激光誘導(dǎo)損傷閾值測(cè)量
波前畸變（透鏡加熱，擠壓）
透射測(cè)量
反射測(cè)量
基于ISO13696散射測(cè)量
衰減（color centers）
熒光/發(fā)光
Absorptance: Thermal lens in fused silica @193nm
可用的輻射源
高功率zhun分子激光器
-351nm、308nm、248nm、193nm、157nm
固體激光器
-1064nm、532nm、355nm、266nm（ns and ps 脈沖寬度）
-1070nm光纖激光（500W cw）
-可調(diào)諧OPO：680~980nm+IR-Idler
激光誘導(dǎo)EUV/XUV源
-13nm
-~4nm
Two‐dimensional scatter map
@248nm
Micrographs of laser‐induced damage sites of various laser‐optical materials
光束測(cè)試軟件
測(cè)試基于ISO標(biāo)準(zhǔn)
Parameter | Standard |
Beam diameter光束直徑 | ISO 11146 |
Divergence | ISO 11146 |
Beam profile光束剖面 | ISO 13694 |
Pointing 指向/ pos. Stability位置穩(wěn)定性 | ISO 11670 |
M2 質(zhì)量因子/ Focusability聚焦性 | ISO 11146 |
Wavefront 波前 / Phase distribution相位分布 | ISO 15367 |
Coherence 相干 | - |
Around 20 various camera types are supported |
巨力光電（北京）科技有限公司立足于北京市副中心通州區(qū)，專門經(jīng)銷歐洲、美國(guó)、日本等國(guó)家制造的科學(xué)儀器設(shè)備，為客戶提供完備的售前咨詢和售后服務(wù)、技術(shù)支持。公司骨干在該行業(yè)有超過10年的經(jīng)驗(yàn)，專業(yè)的服務(wù)水平、完善的售后服務(wù)體系。
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